第十一届慕尼黑上海分析生化展于2023年7月13日在国家会展中心(上海)圆满落下帷幕。 作为实验室行业灯塔展会,本届analytica China为行业奉上了一场技术与思考交流的盛会,洞悉新形势,把握新机遇,共话新发展。

    今年展会汇集1,273家参展企业和合作单位(2020年:1,121家)及56,864位专业观众共襄盛举(2020年:23,652位)。八大展区近80,000平米总展示面积(2020年:60,000平米)上呈现了900+年度新品和新技术、创新技术及前沿解决方案。

    本次展会，CIF新品等离子去胶机、RIE反应离子刻蚀机横空出世，吸引了众多专家、行业人士的驻足，咨询络绎不绝。CIF推出等离子去胶机外观大气美观，同时实用性强，引发了专家老师们的讨论。采用电感耦合各向同性（各个方向）等离子激发方式，适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体去胶。特别适合于大学，科研院所和微电子、半导体企业实验室，对电路板、外延片、芯片、环氧基树脂、MEMS制造过程中牺牲层，干刻或湿刻处理前或后，对基材进行聚合物剥离、金属剥离、掩膜材料等光刻胶去除，以及晶圆表面预处理等。

    同时还有一款产品也受到了专家老师们的喜爱，RIE反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学，科研院所、微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。

国产仪器凝聚“中国力量”,助力国潮崛起

   CIF始终坚持以客户为中心，以市场为导向，本着技术引领、服务驱动的发展理念，积极响应国家科学仪器“国产替代”相关政策，按照“产、学、研、用”及“专、精、特、新”的理念和要求，不断扩大研发、制造投入，向全产业链智能制造发展。

   CIF希望通过自我的不断强大，为我国在前沿科学技术及高端仪器设备研发等方面作出一份贡献。