等离子清洗机装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。

　　等离子体清洗依靠等离子体中活性粒子的“活化作用“达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。有效地防备了因液体冲刷介质对被冲刷物带来的二次污染。等离子冲刷机外接一台真空泵，工作时冲刷腔中的等离子体轻柔冲刷被冲刷物的表面，短时间的冲刷便可以使有机污染物被冲刷掉，同时污染物被真空泵抽走，其冲刷程度达到分子级。

　　等离子清洗机的冲刷器除了拥有超冲刷功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超冲刷过程中等离子冲刷器的辉光放电不只加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子冲刷器宽泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。