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全自动湿法处理系统
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：CHEMIXX 1201
● CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理，包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配...
更新时间：2022-11-25
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大尺寸湿法处理系统
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：CHEMIXX 760
● CHEMIXX 760系统是一款大尺寸湿法系统，支持最大样品达535X535mm(21寸方片)，更大的样品尺寸可定制，一台系统可实现清洗、蚀刻 、显影 ，干燥整个工艺过程。...
更新时间：2022-11-25
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湿法刻蚀专用系统
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：CHEMIXX E 30Pm
● CHEMIXX E 30 湿法刻蚀系统专门用于掩膜版与晶圆的刻蚀与清洗，安全性能好，可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液体。...
更新时间：2022-11-25
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CMP后双面清洗机
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：CHEMIXX CMP 30pm
● CHEMIXX CMP 30pm是一款专门为晶圆双面清洗设计的系统，独立系统，占地面积小，非常适合有限的空间。具有4路化学液清洗，兆声清洗，双面PVA刷洗，去离子水冲洗等清洗模块，对晶圆有顶级的清洗能...
更新时间：2022-11-25
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标准湿法处理系统
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：CHEMIXX 30pm
● CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统，主要用于晶圆或者方片的清洗，刻蚀，显影等应用，其中清洗部分具有化学清洗，兆声清洗，PVA刷洗，高压DI水冲洗，背部清洗等多种功能。...
更新时间：2022-11-25
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12寸晶圆显影机
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：UNIXX DB20/30
● UNIXX DB30 型晶圆显影机是一款针对12寸及以下尺寸晶圆的半自动系统，系统可集成显影，清洗，干燥等模块，同时可用于方片显影，最大尺寸230mm*230mm。...
更新时间：2022-11-25
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8寸晶圆显影机
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：UNIXX D20
● UNIXX DB20 型晶圆显影机是一款针对8寸及以下尺寸晶圆的半自动系统，系统可集成显影，清洗，干燥等模块，同时可用于方片显影，最大尺寸150mm*150mm。...
更新时间：2022-11-25
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手动晶圆烘焙热板系统
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：UNIXX HTp20
● UNIXX HTp20型热板是一款手动桌面型烘焙系统，采用手动PID控制器和定时器开关可确保高的温度控制精度。用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆...
更新时间：2022-11-24
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半自动晶圆烘焙热板系统
- 生产厂家：德国Osiris
- 产品型号：UNIXX HTe20
● UNIXX HTe20型热板是一款桌面型半自动烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake...
更新时间：2022-11-24
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